Lithografieanlgaen und -prozesse
Вставка
- Опубліковано 29 січ 2025
- Realisierung einer Lackmaske durch Lackbeschichtung auf Spin-Coater und direkte Maskenlose Belichtung von CAD Design Daten.
---
Realization of a resist mask by resist coating on spin coater and direct maskless exposure of CAD design data.