Lithografieanlgaen und -prozesse

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  • Опубліковано 29 січ 2025
  • Realisierung einer Lackmaske durch Lackbeschichtung auf Spin-Coater und direkte Maskenlose Belichtung von CAD Design Daten.
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    Realization of a resist mask by resist coating on spin coater and direct maskless exposure of CAD design data.

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