VLSI Lecture6 CMOS N-well Process

Поділитися
Вставка
  • Опубліковано 17 гру 2024

КОМЕНТАРІ • 10

  • @yatinkumargupta6515
    @yatinkumargupta6515 3 роки тому +6

    best lecture I have ever seen on the CMOS fabrication process.

  • @techlover2000
    @techlover2000 2 роки тому +3

    Amazingly clear, well illustrated and well-paced explanation. Thank you, have been looking for something like this and could not find until now!

  • @sho_k1
    @sho_k1 3 роки тому +2

    *Thank you so so so much for this detailed yet simple explanation.*

  • @mastanaiahkumbala2652
    @mastanaiahkumbala2652 2 роки тому +1

    Good lecture

  • @botchannel9359
    @botchannel9359 2 роки тому +1

    well explained!

  • @sravanthipalakolanu3646
    @sravanthipalakolanu3646 2 роки тому

    Ma'am can you please tell me why should we remove the photoresist layer & sio2 layer after the formation of N well?

  • @ninja-hn8qy
    @ninja-hn8qy 2 роки тому

    mam is nmos fabrication and pmos fab are same except for the type of substrate used?

  • @Madhushree04
    @Madhushree04 4 місяці тому

    Why we take opposite substrate of n mos

  • @sujeetmore2752
    @sujeetmore2752 3 роки тому +1

    Maam, Can you please share this PPT?...This shall help a lot!

  • @aryans7981
    @aryans7981 2 роки тому

    Best lecture 😍