【フォトリソグラフィ】最先端の半導体露光装置が数ナノメートルの表面加工できる仕組み
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- Опубліковано 8 вер 2024
- 次世代フォトリソグラフィEUVについて解説しました。
EUVフォトリソグラフィ技術には様々な技術が集結していますが、今回はEUV光源を調べてみました。非常に難解です･･･。
動画を作成する際に下記のリンクを参考にしました。
・KOMATSU TECHNICAL REPORT
2016 VOL. 62 NO.169
半導体製造用短波長光源：エキシマレーザーからLPP‐EUV光源への挑戦
home.komatsu/j...
・日本貿易振興機構
10ナノの壁、極端紫外線（EUV）で乗り越える
www.jetro.go.j...
・オリンパス
顕微鏡の光学原理 ～顕微鏡の能力～
www.olympus-li...
・ウシオ電機
光技術情報誌「ライトエッジ」No.30（2008年3月発行）
４.これからの光源 ４.１ EUV 光源
www.ushio.co.j...
#半導体
#フォトリソグラフィー
#極端紫外線
#EUV
#光
#電磁波
身近にない技術なので知らない人は全く知らない話かもしれませんが、高価なナノテクノロジーの一つです。
話ゆっくりなので、倍速などで聞いてください。
めっちゃわかりやすい。半導体の積層とかもよくわからないので解説して欲しい
話がわかりやすいです。とてもためになりました。
EUVはレンズでは殆ど屈折しないのではないでしょうか？
集光、縮小投影には凹面鏡や凸面鏡などの反射光学系が用いられているかと思います。
とてもわかりやすく説明されていて、とても勉強になりました。今後も見させていただきます。
ありがとうございます！
めちゃくちゃわかりやすいです。
ありがとうございます！
15:55
CO2レーザーは約10000nmですね
数ナノといえばウイルスのサイズに匹敵するが、我々の時代の2.5〜1μmルールからすると夢の様な世界である。
コメントありがとうございます！
とても良い説明資料だと思います。ppt等でいただくことは可能でしょうか？
ありがとうございます！大丈夫ですよ。
チャンネル_概要_詳細にメールアドレスがありますので、メールで受け渡しもできます。
@@gokubinoshiya 高野様、ありがとうございます。お言葉に甘えて頂戴して勉強させていただきます。先ほどメールを差し上げました。なにとぞどうぞよろしくお願いいたします。
ところどころ変な説明やな