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這只是一個光學Litho的模擬而已，跟實際應用還差了個十萬八千里吧。 在EUV曝光機最為好電的部分就是在提供Pre-laser與CO2射擊雷射，前者是用於將錫滴打成垂直於地平面的盤狀電漿，而後者則是打出高能雷射將此錫電漿轟出EUV(也有部分能量會轉成可見光與紅外線)。而要射擊錫滴的頻率目前是每秒5萬次，這裏頻率 x 每次的雷射功率就是為甚麼EUV如此耗電的原因所在。 理論上後面提供射擊錫滴的雷射電源機構可以分成:初級OSC -> 初階 100W AMP -> 中階5KW AMP -> 中階 10KW AMP -> 中階 20KW AMP ->終階 30KW AMP -> 接近30KW雷射射擊 -> 錫滴發出EUV並在集光罩的Intemediate Focus (IF)產生300W的EUV光源功率輸出。這裏用電多少的重點就是在射擊頻率上，因為光阻劑感光因素，是不可能讓這頻率降低的，否則曝光就會與連續性光源的要求差距就更大了，所以省電一說個人是持保留態度。第二個問題是原先EUV這些反射鏡作用是可以降低一些雜訊光，增加對比與改善wavefront，而在這個光學模擬中似乎也沒提到這些附帶作用。現在用於Hi NA-EUV的一些基本技術要求則更為嚴格，錫滴射擊頻率將會拉高到100K Hz (每秒100萬次)使之更趨近於連續光外，錫滴直徑將會小於20μm，Intemediate Focus (IF)EUV光源功率 >330W，後面的>500W也在路上，預計2025或是2026年推出，我想台積電等的就是這個新的高能量Hi-NA EUV機台 (可大幅增加晶圓曝光的吞吐量)。因此這個光學曝光模擬這的能降低錫滴雷射照射頻率嗎? 存疑!
冷卻也非常耗電
你是ASML的嗎？
謝謝你的補充，這個研究只針對反射鏡數目，沒有針對光源。
是專家～
@@toddshih9350 有台灣人在YT上開頻道解說。ua-cam.com/video/hzsWO-juoQQ/v-deo.html
感謝曲博詳細解說，增長見聞
台積電不會花錢去是買的，反倒是日本會送機器過來跟台積合作看看，研究這種製程的真正成本，而費用不會是台積電出，而是日本廠要出的...，畢竟只有經過台積認證，才有機會在全世界銷售出去，否則沒人有空跟你日本玩玩看...
世界不是只有台積用EUV，如果真有用的話一堆代工或記憶體廠絕對會有興趣的
@@chenenjoytheluxury2668 確定良率到符合標準要花很多錢測試，上百億美元都有可能，谁掏錢???看看三星花了多少錢在3nm/5nm的良率上了...
真会胡说八道，意淫。
俄羅斯 350 奈米 曝光機 開發成功了 ， MOSFET 電晶體 1990 年代中期當電晶體 Channel 長度走到大約 350 奈米時，縮小電晶體的前景已日漸黯淡，當時已有人喊出「摩爾定律已死」，甚至還有專家計算出按照當時晶片耗電功率的增加速度，到某個時間點的散熱功率甚至會比火箭噴嘴還要高呢 。
@@chenenjoytheluxury2668中芯7奈米？三星五奈米？英特爾7奈米？台積電2奈米正在試產 日本台積電28奈米正在試產😂😂😂
當年是ASML就是用新技術超車日本兩大廠~ 台積電也是不斷在製程革命中超車對手~ 新概念不斷有人提出~ 能成功實現就有機會勝過對手
曲博的視頻之所以很值得觀看 正是在於他比其他人更能口語化深入淺出的講出關鍵原理 該講的都講到了 非常棒！😅
希望曲博多多貢獻你的學識幫助台灣，幫助台灣這個夾心餅乾，能在世上有立足之地。
有貢獻的話就不會在YT上了
這感覺就模擬一下獲得的結果發表論文而喔，離現實還有一大段路吧，如果真這麼簡單ASML也不會把光路搞得很複雜
模擬發論文 結果做法 原理 都必須公開 然後大家都匯了
美国可能会用繁琐的方法欺骗人们，使他们精疲力竭并拼命追赶。
所以實際設備，沒有見到影子，那不是空歡喜一場.
ASML靠台積電磨刀，CANON效法靠華為磨刀。有錢支持，剩下的是時間。新技術矽光子才是下片藍海，現有已走到極限，最後只會沉淪紅海。
@@JohnHuang-t3y 沒那麼快 , EUV 還可以玩很多花招 , 遠遠沒到極限 N3E 比上一代進步超多
曲先生是越來越強大了！為你加油！
這影片最大的啓示是極紫外光曝光機是集許多國家的力量生產出來的，中國想要獨力完成，難度極高。
獨力就是笑話了，中國學術造假，教授靠關係升遷，根本沒有這方面人才。留學被限制之後中國再等三百年吧。過去中國人才都是留學的，結果把美國實驗室以及公司的商業機密偷回中國。現在美國資安做的非常嚴，也不太收中國留學生，被偷怕了。他們沒想到天下有如此厚顏無恥之民族。
雖然曲博所介紹的是現今最尖端的技術, 但我居然能聽的明白, 曲博深入淺出邏輯分明的功力可見一般, 謝謝曲博, 以後再有新聞講到EUV我就比較有信心了
學到賺到，讚唷！
看完後有個疑惑是為什麼ASML當初設計EUV系統時，無法把鏡片組降低到10片以內？日本人提出的4片鏡片組有辦法繞開ASML當時遇到的障礙嗎？
@SyuAsyou EUV的反射鏡組主要是調整數值孔徑(NA)還有瑞利長度(Rayleigh length)這些光學參數，所以這些反射鏡都有作用，價格很高。
@@Ansforce 日本人是如何跳過這些東西，從而只需要用到4片？
知識力科技 執行長曲建仲科技人才 不忘教學給大陸跟台灣的科技青年！貢獻知識 功德無量！👍👍👍
感謝曲博一直科普許多半導體相關的知識，使我受教良多啊！
@bihshenpliu8300 謝謝你的支持！
高質頻道 支持
微小化到達極限邊界，接下來的科學進展應該就是設備及製程經濟效率化，把技術跟設備變成白菜價跟普及化。
謝謝傳授新知!
日本新EUV價格多少，製程會有什麼改變，因為台積電以前都是適配ASML，台積電要花費多少成本去改變製程，改變成本如何？
謝謝曲博士非常辛苦、非常用心的製作視頻。不論是講稿主題子標題的安排講解配圖，可以說是提綱挈領，非常明白，讓我這外行人看後收穫滿滿。致敬🫡。美中不足者可能是礙於使用的AI自動字幕軟體仍未至完美，有許多字幕與曲博士口語的講解不符，甚至會讓觀眾產生誤解。另文校正字幕的疑義於後，作為回饋。如有任何個人誤解之處，尚祈曲博士包涵指正。敬祝您平安健康喜樂滿足。20241029 Tuesday 20:46BC, Canada 🇨🇦
謝謝你的支持！
台積電要轉用其他技術不是這麼容易, 所有製成流程設備都和ASML 深度綁定, 不可能隨便一台機器一換, 就能全部更改的
這個方法即便可行第一個有辦法把它實際商用的應該也是ASML
問題是日本學者的發想, 並未有實機可以驗證~
已經有有了
不知道ASML遇到什麼困難，最後選擇反射鏡（4＋6）……通常設計會從簡單結構開始驗證，不得已才會把結構複雜化……
為了賺更多錢啊，為了要賣更貴的東西
这是蔡司设计的。asml是直接拿来用罢了。
那是為了要調整光場和瑞利長度(Rayleigh length)不得已的啦！
反射式有尺寸優勢。哈伯天文望遠鏡亦是反射式的應用。而使用多組鏡片在於光學縮放變形控制。日本減少鏡組，曲面就要大，實作公差難度會很高的。
@@Ansforce 让光线更均匀吗？
太晚發現這優質頻道了
曲博講解的真好，很清楚易懂，請問波長NA分辨尺寸那個表格是否可再加上製程節點呢？謝謝
@dennyliao4104 那個表格是曝光機的分辨尺寸，而製程節點只是廠商自己定義的商品名稱，所以很難加上去，只能說實際做到的尺寸可以估計出來，例如：Low NA EUV的NA=0.33，解析度大約13奈米，多重曝光一次SADP可以做出7~8奈米，多重曝光二次SAQP可以做出3~4奈米，依此類推可以參考這個影片：中芯跨入7奈米！躋身全球先進製程行列！？真的有辦法量產？良率有辦法克服？ ua-cam.com/video/4SQaDpIgo2E/v-deo.html
@@Ansforce 感謝
我很認真的看完了😂
謝謝老師！
幾年前看科技新聞，說長春光機所ＥＵＶ以做到２０幾瓦，如果按照這裡的光路效率，該光源已經夠用了。新光路的開發到實用要多少年呢？大平面反射鏡改多個小（好像非平面）鏡反射，這個發明真腦洞，不知該論文是否依據了現有的技術條件？
@luolz 艾司摩爾的EUV光源功率大約500瓦，如果是20瓦的光源應該還太小了！
理論到實驗到量產路還很長，但科技就是這樣進步，佛說成道之路有萬千法門但証道目標一至。
我有一個問題這種光的產生是用不停的折射反射把不要的光束decay掉有點像篩子過濾系統為什麼不是讓能量集中輸出？讓光束集中成奈米寬這樣耗電最少
反射鏡主要是調整數值孔徑(NA)還有瑞利長度(Rayleigh length)這些光學參數，所以這些反射鏡都有作用，簡單的說就是讓光均勻分布。
@ 我們說的應該是同一件事它就是挑出光譜中特定波長能量光束其它不要篩出來的光能量還要集中
聽懂了，感謝
謝謝🙏
請問ㄧ下曲博日本Rapidus是不是台積電未來最大敵人呢.......日本是不是快實現半導體供應鏈ㄧ條龍了
@justinli9218 是的，我認為日本快了！等台積電下一座先進製程晶圓廠建起來，就差不多了！
不是 簡單來說 晶片不是有設備就能弄出來的東西設備才是最簡單的東西 有錢拿去買 設備商絕對賣你 Rapidus連製程都從零開始說好的2奈米 現在聽說去IBM學了 IBM也只有研究出來 量產他什麼鬼都不懂 三星、英特爾、台積電花了十幾年數兆美金的研發費用到才終於到3奈米 英特爾還因此墜落一個日本政府出資9000億日圓 民間企業出資73億日圓的公司 索尼出資JASM都遠超過那73億日圓民間企業根本不想跟他們玩 日本國內一條龍產業沒幾個家要一起下去神風特攻隊而且他們毫無客戶基礎 JASM先找到客戶在哪才在那建廠然後北海道那裡你要找誰去做製程顧設備 全國頂尖理工人才會陪日本政府去北海道嗎沒技術、沒人才、沒客戶要怎麼玩 注定失敗的東西日本政府打算最後花五兆丟進去這個大坑裡面 日本政府破格提出虧錢國家扛 全國人民一起負擔 只能替日本人傷心了這都是日本人自己分析的問題點 有興趣自己去看 不用會日文也看得懂幾句話ua-cam.com/video/ARdxGtkHOd0/v-deo.html就是沒技術 沒客戶 不先賺錢就沒錢而且2奈米的客戶也只有那幾家 這些條件下怎麼可能會轉單Rapidus更何況Rapidus確定對手不會是三星台積電這種擁有超大型量產FAB的公司他們自己就主打不跟三星台積電爭市場 他們要爭的是少量產多元化自己連對手都選不是最強的 要怎麼成為台積電最大的敵人
日本也想做EUV，因為日本盡全力，想要Rapidus超車TSMC，不做不行。
我以前想的東西做出來了....真的來到未來了......但是股票沒買到輝達......
如果可以量產....表示艾廠也有機會先量產!!
曲博特別強調工程師要手動反覆操作這三台機器，是不是在回應之前大陸手動磨奈米的事件。那還是機器磨的，不是老師傅手磨的，標題殺人法不建議使用。
@CHLi-ud7dy 它是用手工操作設備研磨，不是純手工研磨，就像勞斯萊斯也說是純手工打造，其實是用手工操作設備打造。
ASML 可能有想到過,但是裡面又提到需要更高的精度可能就是這裡沒辦法突破.
同感。每個反射鏡都應該有他存在的理由。獲得更高的功率，可能也會失去更多的解像度吧⋯⋯
理論和實際工法還是有點差距，可以先做試驗機台看看可不可行
曲博认为用什么材料制造半反射棱镜？如果有这材料就不用反射镜而用透镜了
@黄天-s7x 極紫外光會被任何物體吸收，所以不能用半反射啦！
感覺這種機台超深奧覆雜😔
其實我想了解日本便宜EUV，影片內容介紹極紫外光EUV
內容介紹很好 。但對標題很不以為然盤子？ASML開發出來 賣給台積 這樣叫盤子？ 仇商？
這是媒體取的標題，小編覺得不錯，我沒有反對，就用了！tw.stock.yahoo.com/news/%E5%8F%B0%E7%A9%8D%E9%9B%BB%E4%B8%8D%E7%94%A8%E7%95%B6%E7%9B%A4%E5%AD%90%E4%BA%86-%E6%97%A5%E6%9C%AC%E9%96%8B%E7%99%BC%E5%87%BA%E6%9B%B4%E4%BE%BF%E5%AE%9Ceuv-%E6%92%BC%E5%8B%95%E6%99%B6%E7%89%87%E6%A5%AD-045509900.html
站在台積角度EUV確實貴桑桑吧XDD 所以CC之前才不會想要那麼快開始買
想請問，光為什麼要一直反射？
简单说光不均勻
@張三豐-l4v EUV的反射鏡組主要是調整數值孔徑(NA)還有瑞利長度(Rayleigh length)這些光學參數，說光不均勻也對，所以這些反射鏡都有作用，價格很高。
曲博總是有反美反西方的傾向，如果台積電可以不用當期子，那不是到處都會有這樣的技術，那是好還是不好？
@hanker8860 我只能說你政治頻道看太多了啦！
@@Ansforce 你下的標題讓人有這樣的感受，美國的制裁措施是必要的，對岸有沒有能力另起爐竈是他們的事，再説他們有本事也是從西方學來的啊，若台灣真的自己發展一套系統，可是面對文攻武嚇，還是別人的棋子不是嗎？
@@Ansforce 小看你了曲博！据然還刪我的貼？
用模擬容易不精確
聽了曲博介紹才去查，才知道沖繩有大學，還不只一間。Okinawa Institute of Science & Technology Graduate University看樣子是個很厲害的學校，像加州理工學院一樣的屬性。
新技術的設備降低成本但舊設備如果賣給中共再貴買去的能製造出3奈米晶片那麼中共的武器和手機更利害了嗎？
没听明白投影部分和光照部分是如何区分的？光照部分的用处是啥？🤔
@dlfang 光照的部分是入射到光罩的，投影的部分是把光罩上的圖形投影到矽晶圓上的呀！
@@Ansforce多谢解答😄
是指佳能的嗎
為什麼極紫外線要反射這麼多次才能成相呢？
EUV的反射鏡組主要是調整數值孔徑(NA)還有瑞利長度(Rayleigh length)這些光學參數，所以這些反射鏡都有作用，價格很高。
聽了半天還是某人講的，聽最後面1分鐘才是真正的結論。
想法與實際天差地遠
一聽就覺得沒向業界確認過, 自己找資料看完就想來個當然如此. 日本學者只模擬小NA, 人家量產作的是大NA. 顯微鏡X10和X100的接物鏡價格,鏡筒長度,NA和裡面鏡片數都不同; 手機鏡頭30萬畫素和1200萬的鏡片數也不一樣, 大口徑學界沒資本玩. 再者157nm從未量產過,高能光子轟擊下被穿透光學元件會劣化(折射率會變掉) 鏡頭組件變成耗材, 光學級CAF2產量有限, 營運成本會拉高. 從365-248-193-157,波長間隔越來越小,微縮能力受限, 透過改變193nmNA折射率,同比下性能33%提昇, 工廠也不用為157新光阻單獨設立新設施. 曝光機是極複雜係統, 193機台鏡頭溫控精度達小數點以下3位數,二十幾年前ARF雷射FWHM就0.3pm啦,為控制色差. 若像EUV光學組件反射率低,吸收光變成熱能會產成形變,水冷應少不了; 在重力影響下, 光學組件若沒將之考慮進去組裝後也會變形這都會影響成像品質,沒認證就想上去擰螺絲,不行. 如果來個921(保證搣動全太陽系 !), 現場光學檢查再調校會耗不少時間. 介紹EUV微影的書已經不少本...
我覺得蔡斯的產量有限是因為在德國設廠。人家一天只工作六小時，然後又加上放假，當然產量有限，然後進步又慢。你蔡斯來台灣設廠產量絕對不是問題。
理論可行，看日本能否造出實用的機台?!
日本人為什麼不蓋一台出來而是把研究成果獻給ASML那不是站著說話不腰疼嗎！？
這就只是學術研究的論文而已，不要激動
聽聽就好 !! 說不好聽的 ，只是發文騙騙 升職等的績效而已 !?
從這次日本國會改選可以得知，日本整個國家的氛圍不希望將大量資金再投入晶片研發當中，遠因還有來自於美國不想讓日本的科技更為進步。
@@mozarthu 美國不想讓除美國以色列之外的任何國家的科技更為進步。
日本的基礎科學遠大於台灣，日本在半導體量產與技術上，未來是有可能超越台灣的國家，日本學者的發想，猶如點火般，可能會造成日本半導體的復興，感謝曲博的專題討論
@Skynetuser123 是的，你說的很好，事實就是如此。
现在的趋势是发达国家出PPT中国负责实现。武器方面美国做得最好所有的PPT都被实现的。
別傻了,這個根本就跟Canon奈米壓印取代EUV有87%像,現在競爭者那麼多日本半導體想要復興根本就不可能~~
可行性高
我一直没理解，为什么从EUV光源到反射式掩模版需要那么多次光反射。
@kendrickren2433 那是要調整光源的形狀和瑞利長度(Rayleigh length)。
@@Ansforce 谢谢！
光刻机内部光路不是要经过类似凸透镜那样的装置吗？这个视频展示的光路似乎全部都是反射
這是常識吧！透鏡奈得住？
反射怎麼會用凸透鏡呢？你小學沒讀過自然嗎？
EUV沒辦法用透鏡。
因為波長這麼短的光沒辦法用透鏡,會被吸收
@007wxp EUV全部都是反射鏡，因為極紫外光會被透鏡吸收。
一開始講解析那段太攏長了，那個公式簡單來說就是光圈越大解析度越高，波長越短解析度越高！沒什麼太複雜的道理
日本除非找到國家級冤大頭支援對!我就是說中國但日本教授是否敢冒得罪美國去與中國合作???
受到台GG到日本設廠的刺激，我感覺日本政府會自己手癢，跳下來參股開公司或請實驗室把實機做出來。
EUV 光源是有專利的，其他公司不能用😂！
金属透镜不是EUV激光光源。日本无法制造中等功率的EUV光源
华为，肯定有兴趣！据说已经在开发中！
所以还是要手工研磨的，之前不懂的人还很是嘲笑了一番中国手工研磨反射镜。
@MoomoomLong 它是用手工操作設備研磨，不是純手工研磨，就像勞斯萊斯也說是純手工打造，其實是用手工操作設備打造。
TGG 有沒有意願當白老鼠?
誰來實踐?
中国科学家看了该論文后 好了， 这下工作量减一半 2025 就有国产EUV 🎉🎉🎉 了
好奇的是中國拿的到嗎？
不意外，日本工業對既有技術工藝改良，算是世界第一。從汽車、火車、都是在既有基礎上技術改良，稱霸世界。TSMC以前要日本做進一步曝光機時，日本人沒做...。現在日本Rapidus要做2nm，日本應該也有ASML曝光機，日本人的DNA一看，就知道如何改良了。
模擬😀😀😀😂😂😂🤣🤣🤣
荷兰的光刻机不要很久就会被对手超过。以我多年对欧洲软硬件产品的体验，欧洲产品经常被overdesign，系统设计繁杂，但逻辑不清晰，后果就是成本高，故障率高。汽车，工业控制系统，软件都能体现出来
競爭市場才能降低價格
台灣有没有能力自己做極紫外光機？
你应该先问DUV能否制造
台灣不需要自己做~~當年就是台積電選擇ASML作為合作夥伴才造出EUV的開發~那時只有台積電願意投資ASML~而飛利浦是ASML最大股東~英特爾是找摩托羅拉美國IBM建立國際性聯盟研發EUV設備的開發~結果失敗~回頭找ASML~
除非買不到才會自己去做~~因為很燒錢~~不然就技術合作一起開發~~
ASML有能力做極紫外光機EUV 為什麼ASML不去代工半導體賺大錢 ?不同領域 還是交給各自的專長即可 各自經營風險也會較小
同步輻射算不算?
是否用「盤子」這個用詞是否太狗血？在自由買賣市場，獨佔生意的定價權原本就在賣方。
日本要重回30年半導體的龍頭, 勢必升級光刻機技術. 全球3大光刻機廠 ASML(荷蘭), Canon(日本), Nikon(日本), 雖然 Canon與Nikon 加起來不到ASML市佔的一半, 但日本的Rapidus (快捷)半導體要在2027年全自動量產2奈米晶片, 勢必 Canon 與 Nikon 這2家光刻機廠一定投入資金升級技術並開發相對便宜的光刻機. 話說台積電日後可以買到相對便宜的光客機, 但會面臨日本Rapidus(快捷)半導體的威脅. 畢竟日本與台灣一樣, 都是奴性社會 --- 責任制, 半夜2點既便下班了, 一旦廠房有事, 立馬奴性抗起責任. 不像歐美, 美積電成不了氣候, 除非從台灣大量輸出奴民到美積電支援, 以便半夜2點廠房有事, 立馬報到, 但這會嚴重傷害台積電的毛利. 別小看日本快捷(Rapidus), 因為日本的社會奴性比台灣更重! 2030會超越台積電.
Lithograph 曝光機，首現，請先改你的奴性，謝謝！
做出芯片再说吧。
EXE5000
聽完IQ直接加15點
我一個祖國朋友說他們上海微電子的DUV光刻機可以製造4納米，勝過小日本這台，是真的嗎？
通常都不是真的，以共產黨的尿性，若是真的，那不吹上天了。
上海微電子的DUV理論值製造精度55奈米，等中芯，華為幫他測試驗證吧
兩津勘吉之倍倍儲蓄法
模擬而已，連初步的驗證實驗也沒，難道ASML沒想過減少反射鏡的想法嘛!? 說不好聽的，只是在打嘴砲 !! 記得一年多前 IBM 說實驗室做出 1 nm ，結果咧 ! 到現在連個蛋都沒 !!
台積電當不當盤子 好像不是台灣說的算
台積電常當盤子~ 投資高鐵~ 投資太陽能茂迪~ 6年後認虧退出~ 沒有次次賭贏的
@@hschen-p3r護🇹🇼神山?盤子？台灣？🚇🎃🧛🧟?🐍🐀🐊?
用一隻講最簡單,做出產品再說吧~~
這樣川怎麼收保護費
ASML是荷蘭公司ㄝ
他還是派軍隊來搶比較霸氣~ 整天在那邊嘴砲~ 真的是.....當年鄭成功的爹可是從浙江搶到朝鮮去~ 上岸就搶糧~搶錢~搶女人~ 還搶西洋商船~ 堪稱東亞海賊王
@@louiswang6213EUV要美國同意，當初收購cymer的協議
語不驚人死不休，跟政論節目學的？只要看最後一分鐘就夠了。
你是懂王？ 你這麼懂，你怎麼不學曲博去德儀上班？
@@黃鬱 我懂得不要满嘴跑马。
感恩
@BruceMilpitas 不要這樣嘛！這個影片主要是介紹極紫外光的原理，順便介紹日本教授的論文，其實後面還有內容，只是我拍完前面發現已經快半小時了，再講下去就超過，後面就沒講了！
@@Ansforce 你自己读一下你的标题，其他期有些也有类似的问题。
要被竊取技術了
日本出來騙錢的吧？
唬爛到爆
沖繩? 是琉球國吧？哪來的日本沖繩
台積電什麼時候當過盤子？博士變名嘴？
看来大陆自己的光刻机马上要出来了
Seeing is believing. Where is it?
說了一大堆，前面講的很神有重大突破，最後卻潑了一桶降溫冰水，說這只是模擬理論，還有一大段路要走！😅😅😅
你以為跟日本買EUV就不用當盤子 你也太天真了 , 台灣從與日本開始貿易以來就一直是盤子, 當日本盤子幾乎是台灣人難得的共識.
讚
我們也可以來開一家被盤子公司了
那中國不就是大發了！
這只是一個光學Litho的模擬而已，跟實際應用還差了個十萬八千里吧。 在EUV曝光機最為好電的部分就是在提供Pre-laser與CO2射擊雷射，前者是用於將錫滴打成垂直於地平面的盤狀電漿，而後者則是打出高能雷射將此錫電漿轟出EUV(也有部分能量會轉成可見光與紅外線)。而要射擊錫滴的頻率目前是每秒5萬次，這裏頻率 x 每次的雷射功率就是為甚麼EUV如此耗電的原因所在。 理論上後面提供射擊錫滴的雷射電源機構可以分成:
初級OSC -> 初階 100W AMP -> 中階5KW AMP -> 中階 10KW AMP -> 中階 20KW AMP ->終階 30KW AMP -> 接近30KW雷射射擊 -> 錫滴發出EUV並在集光罩的Intemediate Focus (IF)產生300W的EUV光源功率輸出。這裏用電多少的重點就是在射擊頻率上，因為光阻劑感光因素，是不可能讓這頻率降低的，否則曝光就會與連續性光源的要求差距就更大了，所以省電一說個人是持保留態度。
第二個問題是原先EUV這些反射鏡作用是可以降低一些雜訊光，增加對比與改善wavefront，而在這個光學模擬中似乎也沒提到這些附帶作用。
現在用於Hi NA-EUV的一些基本技術要求則更為嚴格，錫滴射擊頻率將會拉高到100K Hz (每秒100萬次)使之更趨近於連續光外，錫滴直徑將會小於20μm，Intemediate Focus (IF)EUV光源功率 >330W，後面的>500W也在路上，預計2025或是2026年推出，我想台積電等的就是這個新的高能量Hi-NA EUV機台 (可大幅增加晶圓曝光的吞吐量)。因此這個光學曝光模擬這的能降低錫滴雷射照射頻率嗎? 存疑!
冷卻也非常耗電
你是ASML的嗎？
謝謝你的補充，這個研究只針對反射鏡數目，沒有針對光源。
是專家～
@@toddshih9350 有台灣人在YT上開頻道解說。
ua-cam.com/video/hzsWO-juoQQ/v-deo.html
感謝曲博詳細解說，增長見聞
台積電不會花錢去是買的，反倒是日本會送機器過來跟台積合作看看，研究這種製程的真正成本，而費用不會是台積電出，而是日本廠要出的...，畢竟只有經過台積認證，才有機會在全世界銷售出去，否則沒人有空跟你日本玩玩看...
世界不是只有台積用EUV，如果真有用的話一堆代工或記憶體廠絕對會有興趣的
@@chenenjoytheluxury2668 確定良率到符合標準要花很多錢測試，上百億美元都有可能，谁掏錢???看看三星花了多少錢在3nm/5nm的良率上了...
真会胡说八道，意淫。
俄羅斯 350 奈米 曝光機 開發成功了 ， MOSFET 電晶體 1990 年代中期當電晶體 Channel 長度走到大約 350 奈米時，縮小電晶體的前景已日漸黯淡，當時已有人喊出「摩爾定律已死」，甚至還有專家計算出按照當時晶片耗電功率的增加速度，到某個時間點的散熱功率甚至會比火箭噴嘴還要高呢 。
@@chenenjoytheluxury2668中芯7奈米？三星五奈米？英特爾7奈米？台積電2奈米正在試產 日本台積電28奈米正在試產😂😂😂
當年是ASML就是用新技術超車日本兩大廠~ 台積電也是不斷在製程革命中超車對手~ 新概念不斷有人提出~ 能成功實現就有機會勝過對手
曲博的視頻之所以很值得觀看 正是在於他比其他人更能口語化深入淺出的講出關鍵原理 該講的都講到了 非常棒！😅
希望曲博多多貢獻你的學識幫助台灣，幫助台灣這個夾心餅乾，能在世上有立足之地。
有貢獻的話就不會在YT上了
這感覺就模擬一下獲得的結果發表論文而喔，離現實還有一大段路吧，如果真這麼簡單ASML也不會把光路搞得很複雜
模擬發論文 結果做法 原理 都必須公開 然後大家都匯了
美国可能会用繁琐的方法欺骗人们，使他们精疲力竭并拼命追赶。
所以實際設備，沒有見到影子，那不是空歡喜一場.
ASML靠台積電磨刀，CANON效法靠華為磨刀。有錢支持，剩下的是時間。新技術矽光子才是下片藍海，現有已走到極限，最後只會沉淪紅海。
@@JohnHuang-t3y 沒那麼快 , EUV 還可以玩很多花招 , 遠遠沒到極限 N3E 比上一代進步超多
曲先生是越來越強大了！為你加油！
這影片最大的啓示是極紫外光曝光機是集許多國家的力量生產出來的，中國想要獨力完成，難度極高。
獨力就是笑話了，中國學術造假，教授靠關係升遷，根本沒有這方面人才。留學被限制之後中國再等三百年吧。過去中國人才都是留學的，結果把美國實驗室以及公司的商業機密偷回中國。現在美國資安做的非常嚴，也不太收中國留學生，被偷怕了。他們沒想到天下有如此厚顏無恥之民族。
雖然曲博所介紹的是現今最尖端的技術, 但我居然能聽的明白, 曲博深入淺出邏輯分明的功力可見一般, 謝謝曲博, 以後再有新聞講到EUV我就比較有信心了
學到賺到，讚唷！
看完後有個疑惑是為什麼ASML當初設計EUV系統時，無法把鏡片組降低到10片以內？日本人提出的4片鏡片組有辦法繞開ASML當時遇到的障礙嗎？
@SyuAsyou EUV的反射鏡組主要是調整數值孔徑(NA)還有瑞利長度(Rayleigh length)這些光學參數，所以這些反射鏡都有作用，價格很高。
@@Ansforce 日本人是如何跳過這些東西，從而只需要用到4片？
知識力科技 執行長曲建仲科技人才 不忘教學給大陸跟台灣的科技青年！貢獻知識 功德無量！👍👍👍
感謝曲博一直科普許多半導體相關的知識，使我受教良多啊！
@bihshenpliu8300 謝謝你的支持！
高質頻道 支持
微小化到達極限邊界，接下來的科學進展應該就是設備及製程經濟效率化，把技術跟設備變成白菜價跟普及化。
謝謝傳授新知!
日本新EUV價格多少，製程會有什麼改變，因為台積電以前都是適配ASML，台積電要花費多少成本去改變製程，改變成本如何？
謝謝曲博士非常辛苦、非常用心的製作視頻。不論是講稿主題子標題的安排講解配圖，可以說是提綱挈領，非常明白，讓我這外行人看後收穫滿滿。致敬🫡。
美中不足者可能是礙於使用的AI自動字幕軟體仍未至完美，有許多字幕與曲博士口語的講解不符，甚至會讓觀眾產生誤解。
另文校正字幕的疑義於後，作為回饋。如有任何個人誤解之處，尚祈曲博士包涵指正。
敬祝您平安健康喜樂滿足。
20241029 Tuesday 20:46
BC, Canada 🇨🇦
謝謝你的支持！
台積電要轉用其他技術不是這麼容易, 所有製成流程設備都和ASML 深度綁定, 不可能隨便一台機器一換, 就能全部更改的
這個方法即便可行
第一個有辦法把它實際商用的
應該也是ASML
問題是日本學者的發想, 並未有實機可以驗證~
已經有有了
不知道ASML遇到什麼困難，
最後選擇反射鏡（4＋6）……
通常設計會從簡單結構開始驗證，
不得已才會把結構複雜化……
為了賺更多錢啊，為了要賣更貴的東西
这是蔡司设计的。asml是直接拿来用罢了。
那是為了要調整光場和瑞利長度(Rayleigh length)不得已的啦！
反射式有尺寸優勢。哈伯天文望遠鏡亦是反射式的應用。
而使用多組鏡片在於光學縮放變形控制。
日本減少鏡組，曲面就要大，實作公差難度會很高的。
@@Ansforce 让光线更均匀吗？
太晚發現這優質頻道了
曲博講解的真好，很清楚易懂，請問波長NA分辨尺寸那個表格是否可再加上製程節點呢？謝謝
@dennyliao4104 那個表格是曝光機的分辨尺寸，而製程節點只是廠商自己定義的商品名稱，所以很難加上去，只能說實際做到的尺寸可以估計出來，例如：Low NA EUV的NA=0.33，解析度大約13奈米，多重曝光一次SADP可以做出7~8奈米，多重曝光二次SAQP可以做出3~4奈米，依此類推可以參考這個影片：中芯跨入7奈米！躋身全球先進製程行列！？真的有辦法量產？良率有辦法克服？ ua-cam.com/video/4SQaDpIgo2E/v-deo.html
@@Ansforce 感謝
我很認真的看完了😂
俄羅斯 350 奈米 曝光機 開發成功了 ， MOSFET 電晶體 1990 年代中期當電晶體 Channel 長度走到大約 350 奈米時，縮小電晶體的前景已日漸黯淡，當時已有人喊出「摩爾定律已死」，甚至還有專家計算出按照當時晶片耗電功率的增加速度，到某個時間點的散熱功率甚至會比火箭噴嘴還要高呢 。
謝謝老師！
幾年前看科技新聞，說長春光機所ＥＵＶ以做到２０幾瓦，如果按照這裡的光路效率，該光源已經夠用了。新光路的開發到實用要多少年呢？大平面反射鏡改多個小（好像非平面）鏡反射，這個發明真腦洞，不知該論文是否依據了現有的技術條件？
@luolz 艾司摩爾的EUV光源功率大約500瓦，如果是20瓦的光源應該還太小了！
理論到實驗到量產路還很長，但科技就是這樣進步，佛說成道之路有萬千法門但証道目標一至。
我有一個問題
這種光的產生
是用不停的折射反射
把不要的光束decay掉
有點像篩子過濾系統
為什麼不是讓能量集中輸出？
讓光束集中成奈米寬
這樣耗電最少
反射鏡主要是調整數值孔徑(NA)還有瑞利長度(Rayleigh length)這些光學參數，所以這些反射鏡都有作用，簡單的說就是讓光均勻分布。
@ 我們說的應該是同一件事
它就是挑出光譜中特定波長能量光束其它不要
篩出來的光能量還要集中
聽懂了，感謝
謝謝🙏
請問ㄧ下曲博日本Rapidus是不是台積電未來最大敵人呢.......日本是不是快實現半導體供應鏈ㄧ條龍了
@justinli9218 是的，我認為日本快了！等台積電下一座先進製程晶圓廠建起來，就差不多了！
不是 簡單來說 晶片不是有設備就能弄出來的東西
設備才是最簡單的東西 有錢拿去買 設備商絕對賣你 Rapidus連製程都從零開始
說好的2奈米 現在聽說去IBM學了 IBM也只有研究出來 量產他什麼鬼都不懂
三星、英特爾、台積電花了十幾年數兆美金的研發費用到才終於到3奈米 英特爾還因此墜落
一個日本政府出資9000億日圓 民間企業出資73億日圓的公司 索尼出資JASM都遠超過那73億日圓
民間企業根本不想跟他們玩 日本國內一條龍產業沒幾個家要一起下去神風特攻隊
而且他們毫無客戶基礎 JASM先找到客戶在哪才在那建廠
然後北海道那裡你要找誰去做製程顧設備 全國頂尖理工人才會陪日本政府去北海道嗎
沒技術、沒人才、沒客戶要怎麼玩 注定失敗的東西
日本政府打算最後花五兆丟進去這個大坑裡面 日本政府破格提出虧錢國家扛 全國人民一起負擔 只能替日本人傷心了
這都是日本人自己分析的問題點 有興趣自己去看 不用會日文也看得懂幾句話
ua-cam.com/video/ARdxGtkHOd0/v-deo.html
就是沒技術 沒客戶 不先賺錢就沒錢
而且2奈米的客戶也只有那幾家 這些條件下怎麼可能會轉單Rapidus
更何況Rapidus確定對手不會是三星台積電這種擁有超大型量產FAB的公司
他們自己就主打不跟三星台積電爭市場 他們要爭的是少量產多元化
自己連對手都選不是最強的 要怎麼成為台積電最大的敵人
日本也想做EUV，因為日本盡全力，想要Rapidus超車TSMC，不做不行。
我以前想的東西做出來了....真的來到未來了......但是股票沒買到輝達......
如果可以量產....表示艾廠也有機會先量產!!
曲博特別強調工程師要手動反覆操作這三台機器，是不是在回應之前大陸手動磨奈米的事件。那還是機器磨的，不是老師傅手磨的，標題殺人法不建議使用。
@CHLi-ud7dy 它是用手工操作設備研磨，不是純手工研磨，就像勞斯萊斯也說是純手工打造，其實是用手工操作設備打造。
ASML 可能有想到過,但是裡面又提到需要更高的精度可能就是這裡沒辦法突破.
同感。每個反射鏡都應該有他存在的理由。獲得更高的功率，可能也會失去更多的解像度吧⋯⋯
理論和實際工法還是有點差距，可以先做試驗機台看看可不可行
曲博认为用什么材料制造半反射棱镜？如果有这材料就不用反射镜而用透镜了
@黄天-s7x 極紫外光會被任何物體吸收，所以不能用半反射啦！
感覺這種機台超深奧覆雜😔
其實我想了解日本便宜EUV，影片內容介紹極紫外光EUV
內容介紹很好 。但對標題很不以為然
盤子？ASML開發出來 賣給台積 這樣叫盤子？ 仇商？
這是媒體取的標題，小編覺得不錯，我沒有反對，就用了！
tw.stock.yahoo.com/news/%E5%8F%B0%E7%A9%8D%E9%9B%BB%E4%B8%8D%E7%94%A8%E7%95%B6%E7%9B%A4%E5%AD%90%E4%BA%86-%E6%97%A5%E6%9C%AC%E9%96%8B%E7%99%BC%E5%87%BA%E6%9B%B4%E4%BE%BF%E5%AE%9Ceuv-%E6%92%BC%E5%8B%95%E6%99%B6%E7%89%87%E6%A5%AD-045509900.html
站在台積角度EUV確實貴桑桑吧XDD 所以CC之前才不會想要那麼快開始買
想請問，光為什麼要一直反射？
简单说光不均勻
@張三豐-l4v EUV的反射鏡組主要是調整數值孔徑(NA)還有瑞利長度(Rayleigh length)這些光學參數，說光不均勻也對，所以這些反射鏡都有作用，價格很高。
曲博總是有反美反西方的傾向，如果台積電可以不用當期子，那不是到處都會有這樣的技術，那是好還是不好？
@hanker8860 我只能說你政治頻道看太多了啦！
@@Ansforce 你下的標題讓人有這樣的感受，美國的制裁措施是必要的，對岸有沒有能力另起爐竈是他們的事，再説他們有本事也是從西方學來的啊，若台灣真的自己發展一套系統，可是面對文攻武嚇，還是別人的棋子不是嗎？
@@Ansforce 小看你了曲博！据然還刪我的貼？
用模擬容易不精確
聽了曲博介紹才去查，才知道沖繩有大學，還不只一間。
Okinawa Institute of Science & Technology Graduate University看樣子是個很厲害的學校，像加州理工學院一樣的屬性。
新技術的設備降低成本但舊設備如果賣給中共再貴買去的能製造出3奈米晶片那麼中共的武器和手機更利害了嗎？
没听明白投影部分和光照部分是如何区分的？光照部分的用处是啥？🤔
@dlfang 光照的部分是入射到光罩的，投影的部分是把光罩上的圖形投影到矽晶圓上的呀！
@@Ansforce多谢解答😄
是指佳能的嗎
為什麼極紫外線要反射這麼多次才能成相呢？
EUV的反射鏡組主要是調整數值孔徑(NA)還有瑞利長度(Rayleigh length)這些光學參數，所以這些反射鏡都有作用，價格很高。
聽了半天還是某人講的，聽最後面1分鐘才是真正的結論。
想法與實際天差地遠
一聽就覺得沒向業界確認過, 自己找資料看完就想來個當然如此. 日本學者只模擬小NA, 人家量產作的是大NA. 顯微鏡X10和X100的接物鏡價格,鏡筒長度,NA和裡面鏡片數都不同; 手機鏡頭30萬畫素和1200萬的鏡片數也不一樣, 大口徑學界沒資本玩. 再者157nm從未量產過,高能光子轟擊下被穿透光學元件會劣化(折射率會變掉) 鏡頭組件變成耗材, 光學級CAF2產量有限, 營運成本會拉高. 從365-248-193-157,波長間隔越來越小,微縮能力受限, 透過改變193nmNA折射率,同比下性能33%提昇, 工廠也不用為157新光阻單獨設立新設施. 曝光機是極複雜係統, 193機台鏡頭溫控精度達小數點以下3位數,二十幾年前ARF雷射FWHM就0.3pm啦,為控制色差. 若像EUV光學組件反射率低,吸收光變成熱能會產成形變,水冷應少不了; 在重力影響下, 光學組件若沒將之考慮進去組裝後也會變形這都會影響成像品質,沒認證就想上去擰螺絲,不行. 如果來個921(保證搣動全太陽系 !), 現場光學檢查再調校會耗不少時間. 介紹EUV微影的書已經不少本...
我覺得蔡斯的產量有限是因為在德國設廠。人家一天只工作六小時，然後又加上放假，當然產量有限，然後進步又慢。你蔡斯來台灣設廠產量絕對不是問題。
理論可行，看日本能否造出實用的機台?!
日本人為什麼不蓋一台出來
而是把研究成果獻給ASML
那不是站著說話不腰疼嗎！？
這就只是學術研究的論文而已，不要激動
聽聽就好 !! 說不好聽的 ，只是發文騙騙 升職等的績效而已 !?
從這次日本國會改選可以得知，日本整個國家的氛圍不希望將大量資金再投入晶片研發當中，遠因還有來自於美國不想讓日本的科技更為進步。
@@mozarthu 美國不想讓除美國以色列之外的任何國家的科技更為進步。
日本的基礎科學遠大於台灣，日本在半導體量產與技術上，未來是有可能超越台灣的國家，日本學者的發想，猶如點火般，可能會造成日本半導體的復興，感謝曲博的專題討論
@Skynetuser123 是的，你說的很好，事實就是如此。
现在的趋势是发达国家出PPT中国负责实现。武器方面美国做得最好所有的PPT都被实现的。
別傻了,這個根本就跟Canon奈米壓印取代EUV有87%像,現在競爭者那麼多日本半導體想要復興根本就不可能~~
可行性高
我一直没理解，为什么从EUV光源到反射式掩模版需要那么多次光反射。
@kendrickren2433 那是要調整光源的形狀和瑞利長度(Rayleigh length)。
@@Ansforce 谢谢！
光刻机内部光路不是要经过类似凸透镜那样的装置吗？这个视频展示的光路似乎全部都是反射
這是常識吧！透鏡奈得住？
反射怎麼會用凸透鏡呢？你小學沒讀過自然嗎？
EUV沒辦法用透鏡。
因為波長這麼短的光沒辦法用透鏡,會被吸收
@007wxp EUV全部都是反射鏡，因為極紫外光會被透鏡吸收。
一開始講解析那段太攏長了，那個公式簡單來說就是光圈越大解析度越高，波長越短解析度越高！沒什麼太複雜的道理
日本除非找到國家級冤大頭支援
對!我就是說中國
但日本教授是否敢冒得罪美國去與中國合作???
受到台GG到日本設廠的刺激，我感覺日本政府會自己手癢，跳下來參股開公司或請實驗室把實機做出來。
EUV 光源是有專利的，其他公司不能用😂！
金属透镜不是EUV激光光源。
日本无法制造中等功率的EUV光源
华为，肯定有兴趣！据说已经在开发中！
所以还是要手工研磨的，之前不懂的人还很是嘲笑了一番中国手工研磨反射镜。
@MoomoomLong 它是用手工操作設備研磨，不是純手工研磨，就像勞斯萊斯也說是純手工打造，其實是用手工操作設備打造。
TGG 有沒有意願當白老鼠?
誰來實踐?
中国科学家看了该論文后 好了， 这下工作量减一半 2025 就有国产EUV 🎉🎉🎉 了
好奇的是中國拿的到嗎？
不意外，日本工業對既有技術工藝改良，算是世界第一。
從汽車、火車、都是在既有基礎上技術改良，稱霸世界。
TSMC以前要日本做進一步曝光機時，日本人沒做...。
現在日本Rapidus要做2nm，日本應該也有ASML曝光機，日本人的DNA一看，就知道如何改良了。
模擬😀😀😀😂😂😂🤣🤣🤣
荷兰的光刻机不要很久就会被对手超过。以我多年对欧洲软硬件产品的体验，欧洲产品经常被overdesign，系统设计繁杂，但逻辑不清晰，后果就是成本高，故障率高。汽车，工业控制系统，软件都能体现出来
競爭市場才能降低價格
台灣有没有能力自己做極紫外光機？
你应该先问DUV能否制造
台灣不需要自己做~~當年就是台積電選擇ASML作為合作夥伴才造出EUV的開發~那時只有台積電願意投資ASML~而飛利浦是ASML最大股東
~英特爾是找摩托羅拉美國IBM建立國際性聯盟研發EUV設備的開發~結果失敗~回頭找ASML~
除非買不到才會自己去做~~因為很燒錢~~不然就技術合作一起開發~~
ASML有能力做極紫外光機EUV 為什麼ASML不去代工半導體賺大錢 ?
不同領域 還是交給各自的專長即可 各自經營風險也會較小
同步輻射算不算?
是否用「盤子」這個用詞是否太狗血？在自由買賣市場，獨佔生意的定價權原本就在賣方。
這是媒體取的標題，小編覺得不錯，我沒有反對，就用了！
tw.stock.yahoo.com/news/%E5%8F%B0%E7%A9%8D%E9%9B%BB%E4%B8%8D%E7%94%A8%E7%95%B6%E7%9B%A4%E5%AD%90%E4%BA%86-%E6%97%A5%E6%9C%AC%E9%96%8B%E7%99%BC%E5%87%BA%E6%9B%B4%E4%BE%BF%E5%AE%9Ceuv-%E6%92%BC%E5%8B%95%E6%99%B6%E7%89%87%E6%A5%AD-045509900.html
日本要重回30年半導體的龍頭, 勢必升級光刻機技術. 全球3大光刻機廠 ASML(荷蘭), Canon(日本), Nikon(日本), 雖然 Canon與Nikon 加起來不到ASML市佔的一半, 但日本的Rapidus (快捷)半導體要在2027年全自動量產2奈米晶片, 勢必 Canon 與 Nikon 這2家光刻機廠一定投入資金升級技術並開發相對便宜的光刻機. 話說台積電日後可以買到相對便宜的光客機, 但會面臨日本Rapidus(快捷)半導體的威脅. 畢竟日本與台灣一樣, 都是奴性社會 --- 責任制, 半夜2點既便下班了, 一旦廠房有事, 立馬奴性抗起責任. 不像歐美, 美積電成不了氣候, 除非從台灣大量輸出奴民到美積電支援, 以便半夜2點廠房有事, 立馬報到, 但這會嚴重傷害台積電的毛利. 別小看日本快捷(Rapidus), 因為日本的社會奴性比台灣更重! 2030會超越台積電.
Lithograph 曝光機，首現，請先改你的奴性，謝謝！
做出芯片再说吧。
EXE5000
聽完IQ直接加15點
我一個祖國朋友說他們上海微電子的DUV光刻機可以製造4納米，勝過小日本這台，是真的嗎？
通常都不是真的，以共產黨的尿性，若是真的，那不吹上天了。
上海微電子的DUV理論值製造精度55奈米，等中芯，華為幫他測試驗證吧
兩津勘吉之倍倍儲蓄法
模擬而已，連初步的驗證實驗也沒，難道ASML沒想過減少反射鏡的想法嘛!? 說不好聽的，只是在打嘴砲 !! 記得一年多前 IBM 說實驗室做出 1 nm ，結果咧 ! 到現在連個蛋都沒 !!
台積電當不當盤子 好像不是台灣說的算
台積電常當盤子~ 投資高鐵~ 投資太陽能茂迪~ 6年後認虧退出~ 沒有次次賭贏的
@@hschen-p3r護🇹🇼神山?盤子？台灣？🚇🎃🧛🧟?🐍🐀🐊?
用一隻講最簡單,做出產品再說吧~~
這樣川怎麼收保護費
ASML是荷蘭公司ㄝ
他還是派軍隊來搶比較霸氣~ 整天在那邊嘴砲~ 真的是.....
當年鄭成功的爹可是從浙江搶到朝鮮去~ 上岸就搶糧~搶錢~搶女人~ 還搶西洋商船~ 堪稱東亞海賊王
@@louiswang6213EUV要美國同意，當初收購cymer的協議
語不驚人死不休，跟政論節目學的？只要看最後一分鐘就夠了。
你是懂王？ 你這麼懂，你怎麼不學曲博去德儀上班？
@@黃鬱 我懂得不要满嘴跑马。
感恩
@BruceMilpitas 不要這樣嘛！這個影片主要是介紹極紫外光的原理，順便介紹日本教授的論文，其實後面還有內容，只是我拍完前面發現已經快半小時了，再講下去就超過，後面就沒講了！
@@Ansforce 你自己读一下你的标题，其他期有些也有类似的问题。
要被竊取技術了
日本出來騙錢的吧？
唬爛到爆
沖繩? 是琉球國吧？哪來的日本沖繩
台積電什麼時候當過盤子？博士變名嘴？
這是媒體取的標題，小編覺得不錯，我沒有反對，就用了！
tw.stock.yahoo.com/news/%E5%8F%B0%E7%A9%8D%E9%9B%BB%E4%B8%8D%E7%94%A8%E7%95%B6%E7%9B%A4%E5%AD%90%E4%BA%86-%E6%97%A5%E6%9C%AC%E9%96%8B%E7%99%BC%E5%87%BA%E6%9B%B4%E4%BE%BF%E5%AE%9Ceuv-%E6%92%BC%E5%8B%95%E6%99%B6%E7%89%87%E6%A5%AD-045509900.html
看来大陆自己的光刻机马上要出来了
Seeing is believing. Where is it?
說了一大堆，前面講的很神有重大突破，最後卻潑了一桶降溫冰水，說這只是模擬理論，還有一大段路要走！😅😅😅
你以為跟日本買EUV就不用當盤子 你也太天真了 , 台灣從與日本開始貿易以來就一直是盤子, 當日本盤子幾乎是台灣人難得的共識.
讚
我們也可以來開一家被盤子公司了
那中國不就是大發了！