[기초반도체공정|1.4]

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  • Опубліковано 11 лис 2024

КОМЕНТАРІ • 11

  • @김주영-d7s
    @김주영-d7s 7 місяців тому

    좋은 강의 감사합니다!!😊😊😊

  • @cocosyung
    @cocosyung Місяць тому

    RCA는 무엇의 약어인가요?

    • @DevicePhysics
      @DevicePhysics  Місяць тому

      Radio Corporation of America 라는 회사 이름입니다. 처음 이 방법이 개발된 곳입니다. 자세한 사연은 검색해보면 쉽게 찾아볼 수 있습니다.

  • @oo5609
    @oo5609 Місяць тому

    교수님 정말 바보같은질문일 수 있지만 클리닝이 웻에칭을 사용하여 표면을 세척하는 것으로 이해하였는데 실수로 표면을 세척하려다 에칭이 될수도 있는 건가요?

    • @DevicePhysics
      @DevicePhysics  Місяць тому

      cleaning 용액들이 Si 을 녹이지는 않습니다.

    • @oo5609
      @oo5609 Місяць тому

      감사합니다.

  • @나의음악-k3l
    @나의음악-k3l 7 місяців тому +1

    sc1이나 sc2 세정공정에서 가장 주요한 조건이 뭔가요? 그리고 만약 주요한조건이 잘못되었다면 발생하는 문제점은 뭔가요?

    • @DevicePhysics
      @DevicePhysics  7 місяців тому +1

      수많은 실험을 통해 표준으로 정한 조건이기 때문에 더 중요한 조건 같은 것은 없습니다. 모든 조건이 중요합니다.

  • @호그와트17학번
    @호그와트17학번 10 місяців тому +1

    RCA 클리닝 순서를 바꿔서 진행하면 어떤 문제가 발생하나요?

    • @DevicePhysics
      @DevicePhysics  10 місяців тому +4

      SC-2부터 진행하면 organic residue들이 metal contaminant를 감싸고 있는 경우가 많기 때문에, 제대로 cleaning이 이루어지지 못합니다.

  • @soo4997
    @soo4997 Рік тому

    황산 과산화수소
    황산이 날려버림
    SC-1 유기물 파티클 제거
    실리콘 산화